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HORIC D200/300
卧式全自动氧化炉
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公司名称：
HORIC D200/300 卧式全自动氧化炉
HORIC D200/300 Horizontal Fully Automatic Oxidation Furnace
适用于硅、碳化硅等的干氧、湿氧、扩散、退火、合金等工艺
设备特点
优异的控温精度
优异的颗粒控制能力
优异的膜厚均匀性
全自动化晶圆与品舟传送
技术指标
晶圆尺寸
4、6、8、12英寸
适用领域
功率半导体、晶圆制造、微机电系统
适用工艺
干氧、湿氧、扩散、退火、合金
适用材料
硅、碳化硅等
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