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HORIC D200
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公司名称：
HORIC D200 铝预沉积设备
HORIC D200 Aluminum Pre-deposition Equipment
真空预沉积炉主要用于硅器件的掺杂，达到工艺设计的掺杂质量和方阻，可满足4-6inch晶圆作业。
设备特点
高真空，极限真空可达5X10-4Pa
软着陆载片装置
水冷炉体
技术指标
最高温度
1150℃
控温精度
±0.5℃
极限真空
5×10⁻⁴pa（冷态）
晶圆尺寸
6寸
适用工艺
硅器件的掺杂
适用材料
硅
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