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VERAL GH系列
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公司名称:
VERAL GH系列 槽沉炉
VERAL GH Series Slot Deposition Furnace
适用于半导体、光学、光通讯、航空航天、复合材料领域,可满足石英产品的槽沉改性工艺需求。我司的开发大尺寸石英槽沉炉热场高可靠旋转系统,可满足通过离心力辅助均匀分布功能,实现多温区梯度控制技术。
设备特点
旋转式载料台,可加速石英融化,提高生产效率
多方式、多点位测温模式,保证石英均匀成型
加热保温组件内部增设防硅腐蚀结构,延长设备核心部件的使用寿命
技术指标
最高用温度
2000℃
温度均匀性
±5℃
冷态真空度
5Pa
立式尺寸
Φ1500×H1200mm;Φ1200×H1200mm;Φ3000×H1200mm
适用工艺
适用于半导体石英结构的槽沉成型工艺
适用材料
石英
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