设备，适用于太阳能、耐蚀涂层、光电涂层、硬质涂层等领域，可满足金属、氧化物、氮化物、碳化物产品直流溅射、射频溅射、中频溅射工艺需求。连续式PVD设备可用于自动化晶界扩渗产线中，采用旋转靶技术，实现重稀土薄膜±5%的高均匀性沉积。立式PVD连续线创新性集成磁控溅射与多弧离子镀双技术路线，拓宽了高端涂层制备工艺场景，并已在客户交付现场完成TGV通孔镀膜工艺验证。
