连续镀膜设备，适用于耐蚀涂层、光电涂层、硬质涂层、磁性材料重稀土涂层等领域，可满足金属、氧化物、氮化物、碳化物产品直流溅射、射频溅射、中频溅射工艺需求。连续式PVD设备可用于自动化晶界扩渗产线中，采用旋转靶技术，实现重稀土薄膜±5%的高均匀性沉积。
