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ARTI 系列
多腔室磁控溅射镀膜设备
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公司名称:
ARTI 系列 多腔室磁控溅射镀膜设备
ARTI Series Multi Chamber Sputtering Equipment
连续多腔体镀膜设备,采用整鼓连续的方式,具备自动化上下系统;适用于智能设备、车载屏幕、激光雷达、人脸识别等领域,可完成金属、氧化物、氟化物、氮化物等材料的直流、中频、射频溅射工艺涂层沉积。
设备特点
各腔室独立控制,减少交叉污染
产品形状尺寸灵活,兼容3D曲面
节拍快,产能大(约300w片/年 ,200×100基片)
温差少,崩渣少、应力小、良率高
整鼓连续的方式,自动化上下系统
技术指标
极限真空度
优于8.0×10⁻⁵Pa(工艺室)
膜厚均匀性
≤±5%
适用工艺
直流溅射、中频溅射、射频溅射
适用材料
金属、氧化物、氟化物,氮化物等
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