原子层沉积设备，适用于光学镜头、功率器件、OLED、MEMS、先进封装领域，可满足增透膜/减反膜、导电膜、钝化层、阻隔层等工艺需求。此设备突破高精密减反增透光学膜制备技术，已成功实现Al₂O₃的原子层沉积工艺验证。
