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真空新能源装备 Vacuum Tech
VERAL GH1015
涂层沉积炉
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公司名称：
VERAL GH1015 涂层沉积炉
VERAL GH1015 Coating Deposition Furnace
化学气相沉积炉，适用于半导体零部件、航空航天复合材料领域，可制备半导体级 SiC 涂层、陶瓷基复合材料、超高温涂层及金属涂层。
设备特点
完善的尾气处理装置，进气管防堵塞措施，保证工艺顺行，有效降低安全风险和系统维护频次；
稳定精准的固体（或液体）送料系统；
工件支撑结构的自动切换，保障沉积涂层的均匀性；
可配备基础工艺；
针对产品高中低纯度需求，兼顾设备成本和用户预算，最优化设计；
技术指标
最高使用温度
2000℃
温度均匀性
±5℃
冷态真空度
5Pa
压升率
< 5Pa/h
适用工艺
主要应用是在石墨和碳化硅基底上完成半导体级SiC涂层（或块体）、TaC涂层的制备
适用材料
石墨、碳化硅
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