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VERAL GH系列
CVI沉积炉
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公司名称：
VERAL GH系列 CVI沉积炉
VERAL GH Series CVl Deposition Furnace
适用于石墨和碳化硅基底的半导体级碳化硅涂层工艺
设备特点
针对产品高、中、低纯度需求，兼顾设备成本和用户预算，最优化设计
聚氯硅烷在线处理装置，进气管防堵塞措施，保证工艺顺行，有效降低安全风险和系统维护频次
配置固体送料系统，可以兼容碳化、碳化担等涂层的制备
配置液体闪蒸蒸发系统，在增加量程调节范围的同时，保证液体进料的准确性和稳定性
工件支撑结构的自动切换，保障沉积涂层的均匀性
技术指标
最高使用温度
1600℃
温度均匀性
±10℃
冷态极限真空度
10Pa
适用工艺
石墨和碳化硅基底的半导体级碳化硅涂层工艺
适用材料
石墨、碳化硅
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